利用催化剂 的光催化氧化性，使吸附在其表面的vocs发生还原反应，终转变为co2、h2o及无机小分子物质。具有光催化作用的半导体催化剂 ，在吸收了大于其带隙能（eg）的光子时，电子从充满的价带跃迁到空的导带，而在价带上留下带正电的空穴（h+）。光致空穴具有很强的氧化性，能将其表面吸附的oh-和h2o氧化成·oh，·oh几乎可以氧化所有的有机物。常用的金属氧化物光催化剂 有：fe2o3、wo3、cr2o3、zno、zro、tio2等。由于tio2来源广，化学稳定性和催化活性高，没有毒性，成为试验研究中常用的光催化剂 。

　　前期发展将经过炭黑改性的tio2负载在铝片或不锈钢网上，用低压汞 灯作光源，为10-14mg/m3时得到了80％-88％的去除。将tio2涂覆在玻璃、瓷砖、日光灯管上，在普通日光下3h后的去除率分别达到27.8％、23.1％、15.8％。后期发展用三氧乙烯对tio2薄膜进行预处理后，半衰期由35min缩短至8min，很多vocs的光催化反应速度明显加快，原因是反应生成的氯 吸附在催化剂 表面生成氯 游离基引起发链反应，加快了反应进程，提高了气相光催化反应速率。

　　在波长范围 170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol）高能紫外线的作用下，一方面空气中的氧气被裂解，然后组合产生臭氧；另一方面将恶臭气体的化学键断裂，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中完美体育，使恶臭气体终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物，如co2、h2o、so2、n2等。

　　3、提供的uv光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。

　　4、uv光解净化的长期稳定、高效，需要反应温度＜70℃，粉 尘量＜100mg/m3完美体育，相对湿度＜99％。

　　紫外光催化技术对于某些有机化合物的部分化学键键能高于所提供的uv光子能量，如“c=o”键的键能为728kj/mol。目前我们所提供的uv光子的能量为 704kj/mol（正在研发742kj/mol和800kj/mol）。甲 醛 在170nm的uv紫外光的照射下，会裂解生成游离态的[c=o]*、 h*。一部分[c=o]*与03反应生成co2，一部分[c=o]*在经过与n2等惰性物质碰撞后失去能量，生成co，臭氧量充足时可将部分co氧化成co2 。

　　如果提供的uv紫外线kj/mol），则反应过程相对就更加简单一些：甲 醛 会被直接裂解成游离态的c*、h*，会被o3直接氧化成co2和h2o。

　　以上可见，不同波段的uv紫外线对于同一种物质的光解反应可以是不一样的，uv紫外线的波长越短，即uv光子能量越高，物质的光解反应就越容易，反之越难，甚至没有任何效果。

　　利用特制的高能高臭氧uv紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如co2、h2o等。再分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧。因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。众所周知，臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及感激性异味有立竿见影的清除效果。有机恶嗅气体首先通过本区后，净化设备运用高能uv紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸 （dna），再通过臭氧进行氧化反应。

　　采用了独特的吸附-分解-碳化工艺技术设计，无需再生处理原料完美体育，无需专人负责，不产生二次污染。采用脉冲高压高频等离子体电源和齿板放电装置，使其产生高强度、高浓度、高电能的活性自由基，在毫秒级的时间内，瞬间对经过uv紫外线光解区进入等离子分解区的气体内残留的有害废气分子进行氧化还原反应，将废气中的污染物降解成二氧化碳和水及易处理的物质。利用催化氧化剂 的强氧化性和高吸附性，持续地对等离子体未处理尽的污染物和生成的物质进行催化氧化反应，使有害废气经多级净化后终达标排放。

　　5.高效除恶臭，一次性净化效率高，能同时净化多种污染物，且净化效率高，无需添加任何物质，无二次污染；

　　喷漆车间、油墨印刷、喷涂车间、化工、医 药、橡胶、食品、印染、酿造、造纸、炼油厂、污水处理厂、垃圾转运站等产生的有毒有害恶臭废气体。

　　uv-型等离子光解废气除臭净化器为等离子有机废气净化和恶臭气体uv高效光解净两种设备的优点集合而成，分为紫外线光解和等离子分解两个区，恶臭气体先经uv紫外线光解区再进入等离子分解区，经多级净化后达标排放！

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